Technoleg Gwrth-ffugio Micro-nano
Gan ddefnyddio'r egwyddor delweddu lens ac effaith optegol Moire, cymhwyso technoleg prosesu optegol micro-nano mwyaf datblygedig y byd i wneud prif blât (mae ei gywirdeb a'i anhawster prosesu yn debyg i gywirdeb sglodion lled-ddargludyddion), ac yna trwy baru cywir a defnyddio optegol effaith chwyddo i gyflawni strwythur aml-haen o dechnoleg gwrth-ffugio.Gall hefyd wneud i fyny ac i lawr, drifft orthogonal, switsh chwith a dde, Sgan sgan ac effeithiau eraill, gall ei gryfder gwrth-ffugio fod yn debyg i lefel gwrth-ffugio arian papur.
Dyma rai Effeithiau Technegol Cudd Strwythur Micro - Nano Cyffredin
1. Micro-graff a Micro-destun
Ar gyfer delweddau LOGO neu destun gydag uchder o 50 ~ 150um, gellir defnyddio chwyddwydr llaw 10 ~ 40x neu gamera macro ffôn symudol i arsylwi'r wybodaeth fach.Gellir defnyddio'r dechnoleg hon ar gyfer gwrth-ffugio llinell gyntaf, ail linell.
2. miniaturization hyperfine
Ar gyfer delweddau LOGO neu destun ag uchder o 20 ~ 50um, gellir eu harsylwi gan chwyddwydr o 40 ~ 100 gwaith neu gamera macro o ffôn symudol.
3. ffibr gwybodaeth
Mae llinell ffibr yn broses bapur gwrth-ffug, dosbarthiad ar hap, a wneir yn aml o amryliw fflwroleuol, a ddefnyddir yn eang yn y diwydiant tocynnau RMB a diwydiant tocynnau eraill.
Golygfa macrosgopig o ffibr gwybodaeth yw llinell ffibr, gellir gweld chwyddo 40 gwaith yn llinyn o ymadrodd ystumiedig, lled llinell ffibr ac uchder testun, fel arfer 150 ~ 300um.Gellir defnyddio'r dechnoleg hon ar gyfer gwrth-ffugio dwy-linell, tair llinell.I'r wybodaeth miniaturized, gellir ei ddefnyddio ar gyfer dwy - llinell, tair - llinell gwrth-ffugio.
4. Cylchdroi trajectory
O dan ffynhonnell golau cyffredin, mae'r ymddangosiad yn dangos trac crafu dolen gaeedig, wedi'i oleuo gan ffynhonnell golau bach fel fflachlamp ffôn symudol ysgwyd, cyflwyno gwybodaeth graffig a thestun a chylchdroi ynghyd â'r trac crafu.Yn addas i'w ddefnyddio gydag ymylon cyfuchlin crwn neu hirgrwn.Fe'i nodweddir gan yr angen i feddiannu ardal benodol a gellir ei ddefnyddio ar gyfer gwrth-ffugio llinell gyntaf ac ail linell.
Yn ogystal, mae yna fel metacharacters, atgynhyrchu laser, patrwm nodweddiadol diffreithiant, dirdro 3D a thechnegau micro-nano eraill.
